RO522/5400高純度タンタルプレートは、プレミアム99.95％から99.99％の純粋なタンタルで製造されており、例外的な腐食抵抗、高温安定性、優れた機械的特性を確保しています。 ASTM B708標準を満たすように設計されたこのタンタルプレートは、化学処理、航空宇宙、電子機器、医療、および半導体アプリケーションで広く使用されています。
Tantalumには、高融点、低蒸気圧、良好なコールド処理性能、高い化学物質の安定性、液体金属腐食に対する強い耐性、表面酸化物膜の大きな誘電率など、一連の優れた特性があります。したがって、タンタルは、電子機器、冶金、鉄鋼、化学産業、セメント炭化物、原子エネルギー、超伝導技術、自動車エレクトロニクス、航空宇宙、医療健康、科学研究などのハイテク分野で重要な用途を持っています。
タンタルプレートは、次の仕様で生成できます。
タンタル箔、厚さ0。025-0。09mm *幅5-300 mm *長さ50mm以上
タンタルシート、厚さ0。1-0。
タンタルプレート、厚さ0
化学組成：
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材料 ％ |
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学年 |
主な材料 |
不純物のコンテンツ以上 |
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ta |
NB |
fe |
si |
ni |
W |
MO |
ti |
NB |
O |
C |
H |
N |
|
|
TA1 |
残基 |
-- |
0.005 |
0.005 |
0.002 |
0.01 |
0.01 |
0.002 |
0.03 |
0.015 |
0.01 |
0.0015 |
0.01 |
|
TA2 |
残基 |
-- |
0.03 |
0.02 |
0.005 |
0.04 |
0.03 |
0.005 |
0.1 |
0.02 |
0.01 |
0.0015 |
0.01 |
|
TANB3 |
残基 |
＜3.5 |
0.03 |
0.03 |
0.005 |
0.04 |
0.03 |
0.005 |
-- |
0.02 |
0.01 |
0.0015 |
0.01 |
|
TANB20 |
残基 |
17.0-23.0 |
0.03 |
0.03 |
0.005 |
0.04 |
0.03 |
0.005 |
-- |
0.02 |
0.01 |
0.0015 |
0.01 |
|
TA2.5W |
残基 |
0.005 |
0.005 |
0.002 |
3.0 |
0.01 |
0.002 |
0.04 |
0.015 |
0.01 |
0.0015 |
0.01 |
|
|
Ta10w |
残基 |
0.005 |
0.005 |
0.002 |
11 |
0.01 |
0.002 |
0.04 |
0.015 |
0.01 |
0.0015 |
0.01 |
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ユーザーが特別な要件を持っている場合、2つの当事者は詳細のために交渉します |
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